濕蝕刻和幹蝕（shí）刻有什麽區別

幹蝕刻采用（yòng）的（de）蝕刻劑是等離（lí）子體，其工作原理是利用等離子體（tǐ）和表（biǎo）麵薄膜反應，形（xíng）成揮發（fā）性物 質，或者直接轟擊薄（báo）膜表麵使之（zhī）腐（fǔ）蝕的工藝，它的（de）特點是，可以實現各項異性（xìng）刻蝕（shí），從而保證 細心圖形轉移後的保真性，幹蝕刻（kè）的設備造價比較高，應用的領域主要以半（bàn）導體為主。