銅蝕刻，是利用（yòng）光化學蝕（shí）刻，通過曝光顯影後，將需要蝕刻的（de）銅區域保護材質去（qù）除，接觸（chù）化學溶液達到溶（róng）解腐蝕的作用，形成（chéng）鏤空或（huò）者凹凸（tū）成型的效果，銅蝕刻較（jiào）早的應用是在銅板印刷的凹凸版上麵，通過蝕刻工藝及蝕刻設備的發展，許多的銅材質的精密件（jiàn）也選擇蝕刻工藝進行加（jiā）工，例如手機電腦（nǎo）上（shàng）麵的VC散熱片、精密墊片以及各類的金屬網，精美（měi）的銅材質工（gōng）藝品等等。
銅蝕刻的工序分為曝光法和網印法（fǎ）（也稱為絲印）。
曝光法的工藝（yì）流程：工程繪（huì）圖、裁料、塗布、烘（hōng）幹、菲林檢查、曝光、顯影、檢板、蝕刻、退墨、拆（chāi）片、檢測、包裝。
網印法的工藝流程：工程繪圖、裁料、清洗板材、絲網印、蝕刻、脫模、包裝出（chū）貨。
常用（yòng）的（de）蝕（shí）刻（kè）液有六（liù）種類型：氯化鐵（tiě）、過硫酸（suān）銨、硫酸/鉻酸、酸性氯（lǜ）化銅、堿性氯化銅、硫酸/雙氧（yǎng）水蝕刻（kè）液。
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