化學蝕刻和光刻的區別

化學蝕刻和光刻是芯片行業中常見的兩（liǎng）種（zhǒng）加工（gōng）工藝，有的網友（yǒu）會把蝕刻和（hé）光刻混（hún）淆，其實這兩種加工的（de）區別還是很大的。下麵我們來了解一（yī）下兩者之間的工作原理和區別（bié）之處。

蝕刻分為兩種，一種是（shì）幹刻（kè），一種是濕刻。濕刻是（shì）目（mù）前蝕刻行業的（de）常用的方式，故名（míng）思議，濕蝕刻過（guò）程中有（yǒu）化學溶液液體（tǐ）加入（rù）。幹（gàn）刻則是通過等（děng）離子氣體代替化學溶液對加工件（jiàn）進行腐蝕。