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化學蝕刻(kè)引線框架的特點

來源: | 時間:2022-06-01 | 閱讀文本僅需2分鍾

引線框架是(shì)半導體封裝的基礎材料,借助於鍵合材料(金絲(sī)、銅絲、鋁絲)實現芯片內部電路 引出端與外引線電氣的連(lián)接,形(xíng)成電氣回路的關鍵結構件,起到和外部(bù)導線連接(jiē)的橋梁作用。 目前引線框架加工的方式有衝壓、化學蝕(shí)刻等工(gōng)藝,下麵來了(le)解一下化學蝕刻引線框架(jià)的特點 。

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化學(xué)蝕刻引線框架工藝采(cǎi)用化學溶液從(cóng)金屬帶(dài)上麵蝕刻出引線(xiàn)框架的圖形(xíng),具體的蝕刻步驟分 為:裁料、清洗、烘(hōng)幹、噴油、曝光、顯(xiǎn)影、蝕刻、退墨、檢測。
引線框架蝕刻加工的特點(diǎn)是生產周期短(duǎn)、精度高、表麵(miàn)光滑(huá)無毛刺、加工出來的引線框架品質 較(jiào)高(gāo)。隨著引(yǐn)線框(kuàng)架的性能均勻、精確板型、帶材厚度越來越薄,從0.25到0.15、0.1mm逐步 減薄,0.07mm的薄化和(hé)異形化,模具衝壓加工引線框架存在一(yī)定的難度,而蝕刻加工則可以(yǐ)很 好的解決薄化、異形化引線框架加工的需(xū)求。

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