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化學蝕刻引線框架的特點

來源: | 時間:2022-06-01 | 閱讀(dú)文本僅需2分鍾

引線(xiàn)框架是半導體封裝的基礎材料,借(jiè)助於鍵合材料(金絲、銅絲(sī)、鋁絲)實現芯片內部電路 引出端(duān)與外(wài)引線電氣的連接,形成電氣(qì)回路的關鍵結構件,起到和外部導線連接(jiē)的橋梁作用。 目前引線框架加工的方式有(yǒu)衝壓、化學蝕刻等(děng)工藝(yì),下麵來了解一下化學蝕刻引線框(kuàng)架的特點 。

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化學(xué)蝕刻引線框(kuàng)架工藝采用化學溶液從金屬帶上麵蝕刻出引線框架的圖形(xíng),具體的蝕刻步驟分(fèn) 為:裁料、清洗、烘幹、噴油、曝(pù)光(guāng)、顯影、蝕刻、退墨、檢(jiǎn)測。
引線框架蝕刻加工的特(tè)點是生產周期短(duǎn)、精度高、表麵光(guāng)滑無毛(máo)刺、加工(gōng)出來的引線框架品質(zhì) 較高。隨(suí)著引線框架的性能均勻、精確板型、帶材厚度越(yuè)來越薄,從0.25到0.15、0.1mm逐步 減薄,0.07mm的薄化和異形化,模具衝壓加工引(yǐn)線框架存(cún)在(zài)一定的(de)難度,而蝕刻加工則可以很 好的解(jiě)決薄(báo)化、異形化引線框架(jià)加工的需求。

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