什麽是蝕刻工藝

       蝕刻工藝因金屬類型而異，但一般蝕（shí）刻（kè）工藝如下：金（jīn）屬蝕刻板（bǎn）→清洗（xǐ）→水洗烘（hōng）幹→塗布烘幹→曝光製圖→顯影→水洗幹燥→蝕刻→脫膜→幹燥→檢驗→成（chéng）品包裝。

       1. 金屬蝕（shí）刻前的清洗（xǐ）工藝：不鏽鋼或其他金屬蝕刻前的工藝是清洗處（chù）理，主要作用是去除材（cái）料表麵的汙垢（gòu）、灰（huī）塵、油漬等。清洗過程是確保後續膜或絲印油墨對金屬表麵附著力良好的關鍵。

       因此，必須徹底清除金屬蝕刻表麵的油（yóu）汙和氧化膜。脫脂應根據（jù）工件的油（yóu）汙情況確定。最好在絲印油墨前進行電脫脂，以（yǐ）確保脫脂效果（guǒ）。除氧化膜外，還應根據金屬類型和膜厚選擇最佳蝕刻液，以確保表麵清潔（jié）。絲網印刷前必須幹燥。

1.  幹膜或絲印感光膠層：根據實際（jì）產品材料、厚度和圖形的準確寬度，確定幹膜或濕膜絲印。對於不同厚度的產品（pǐn），在應用感光層（céng）時，應考慮產（chǎn）品圖形（xíng）所需的蝕刻處理時間的（de）感光膠層，覆蓋性能好，金屬蝕刻產生的圖案清晰度高。

   2. 幹燥:薄膜或（huò）滾印絲印刷油墨完成（chéng）後（hòu），感光膠層需要徹底幹（gàn）燥，為曝光過程做好準備。同時保證表麵清潔，無粘連、雜（zá）質等。

   3. 曝光：本工藝是金屬蝕刻的重要工藝，根據產品材料的厚度和精度考慮曝光能量。這也是（shì）蝕刻加工企業技術（shù）能力的體現（xiàn）。曝光過程決定了蝕刻是否能保證更好的尺寸控製精度。

    4. 顯影：金屬蝕刻版表麵的光敏膠層曝光後，圖案膠層（céng）曝光後固化。然後，暴露圖案中（zhōng）不需要的部分（fèn），即腐蝕（shí）部分（fèn）。開發過程還決定了產品的最終（zhōng）尺寸是（shì）否能滿足要求。該過程將完全去除產品上不需要的光敏（mǐn）膠層。

     5. 蝕刻或蝕刻工藝：產品預製工藝完成後，化學（xué）溶液將被蝕刻。該（gāi）過程決定了最終產品是否合格。該（gāi）過程涉及蝕刻液的濃度、溫度、壓力（lì）、速度等參數。產品的質量需要由這些參數共同決定。

     6. 退墨：蝕刻產品表麵仍（réng）覆蓋一層光敏膠，需要（yào）去（qù）除蝕刻產品（pǐn）表麵的光敏膠（jiāo）層。由於光敏膠（jiāo）層是酸性物質，大多（duō）采用酸堿中和法進行膨（péng）化（huà）。溢流清（qīng）洗和超聲波清洗後，去除表麵的光敏膠層，防止光敏膠殘留。

     7. 檢驗：取膜完（wán）成後，後續（xù）進行檢驗、包裝，最終確認成品是否符合規格。